
说起光刻机,大家都知道荷兰的ASML是老大,尤其是它的EUV光刻机,全球独一份,想买还得排队。
过去这些年,ASML的赚钱套路很简单:不断推出新一代光刻机,逼着台积电、三星、英特尔这些大客户跟着升级换代。
从KrF到ArF,再到ArFi,再到EUV,每一代都比上一代贵好几倍。你刚花1亿多美元买了一台普通EUV,过两年它又出了个更强的,分辨率更高、效率更好,你买不买?不买,工艺就落后了。所以芯片厂只能咬着牙掏钱。
这个套路一直很灵,直到最近出了岔子。
ASML最新的宝贝,叫High-NA EUV光刻机,数值孔径从0.33提升到0.55,分辨率更高,专门瞄准2nm以下的先进工艺。价格呢?也从第一代EUV的一亿多美元,直接飙到了4亿美元一台。ASML的如意算盘是这样的:7nm到3nm,你们用原来的普通EUV就行。到了2nm及以下,对不起,得上我的High-NA了,一台4亿,爱买不买。
三星和英特尔倒是很配合,爽快地下了单。可ASML最垂涎的大客户——台积电,却一直按兵不动,一台都没订。
更让ASML坐不住的是,台积电最近公布了未来四年的工艺路线图,一直到2029年,最高做到1.2nm工艺,但人家明确说了:这些芯片的制造,都不需要High-NA EUV光刻机。
什么意思?就是用现有的普通EUV,照样能折腾出2nm,甚至往后的1.4nm、1.2nm。台积电哪来的底气?
一方面是技术积累。台积电这么多年一直在研究EUV的潜力,摸透了它的脾性,在现有设备上不断优化,硬是把工艺往前推了好几代。另一方面,台积电玩了个“光刻+刻蚀+沉积”的组合拳,把光刻的难度转移到刻蚀和沉积环节,相当于用巧劲绕开了对更高端光刻机的依赖。
算一笔账就明白了。台积电手里有上百台普通EUV光刻机,如果全部换成High-NA,一台4亿美元,光设备投入就要400多亿美元。这笔钱拿来干嘛不好?自主研发、扩产线、建新厂,哪个不比白送给ASML强?台积电又不傻。
这下轮到ASML风中凌乱了。原本指着台积电这个大金主下单,结果人家直接说未来四年都不买。4亿美元一台的机器,三星和英特尔能消化多少?撑不起整个盘子啊。
说白了,ASML的套路之所以过去好使,是因为芯片厂没得选。但现在台积电用实际行动证明:我不跟你走了,我有自己的路。这对ASML来说,不光是丢掉一单生意的问题,而是它的整个商业模式——靠迭代新品逼客户买单——可能要被打破了。
大客户不跟了,接下来ASML的业绩怎么办?这个问题的答案,估计连ASML自己都在头疼。
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